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邓海

邓海

博士,教授

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教育和工作经历

工作经历

  • 1998-2000美国罗门哈斯公司,高级研究员

  • 2001-2014美国英特尔公司,高级主任工程师

  • 2014-2015東京応化工業株式会社美国分公司,院士

  • 2015至今复旦大学,教授

教育经历

  • 1984-1988中山大学

  • 1990-1992京都大学

  • 1992-1995东京工业大学

  • 1996-1996美国阿克伦大学

  • 1997-1998加利福尼亚大学伯克利分校

研究领域

  • 下一代3nm节点先进半导体芯片制造用的光刻胶和光刻工艺的研发

  • 先进半导体芯片制造用的高端光刻胶、光刻材料和相关工艺集成的研究(微电子方向)

a. 90 nm~5 nm节点高端半导体光刻材料的研发;

b. 探索Moore’s Law的材料极限,研发下一代10~5 nm分辨率的光刻材料DSA;

c. 研究DSA的图像化工艺和plasma刻蚀工艺;

d. 纳米器件的设计和加工

  • 纳米材料的精密设计和合成 (材料方向)

新型纳米材料、器件的研发,序列可控聚合物及其纳米复合材料的研究


代表性论文

  • GY Wu, H Deng*, High Etch Resistant Ferrocene-Containing Block Copolymers with 5 nm Patterning Capability. J. Photopolym. Sci. Tec., 2020, 33, 537.

  • L Dai, H Cao, H Deng*, Highly Ordered Methacrylate Block Copolymers Containing Liquid Crystal Side Chains. J. Photopolym. Sci. Tec., 2020, 33, 541.

  • Li, X. M.; Li, Z. L.; Dai, L.; Cao, H Deng*, Block Copolymers with a Fluoro-block for 5 nm DSA Patterning Application. Proc. of SPIE, 2020, 11326, 113261E

  • Li, Z. L.; H Deng*, Synthesis of Fluorine-containing Polyacrylamide Block Copolymer and Their Application for Rapidly Formation of Sub-10 nm Microdomains. J. Photopolym. Sci. Tec., 2019, 32, 389-393.

  • Cao, H.; Li, X. M.; Liu, Y. Y.; H Deng*, Synthesis of Liquid Crystalline Block Copolymers Self-assembled into Sub-5 nm Microdomains. J. Photopolym. Sci. Tec., 2019, 32, 413-416.

  • XM Li, J Li, CX Wang, YY Liu, H Deng*. Fast self-assembly of polystyrene-b-poly(fluoromethacrylate) into sub-5 nm microdomains for nanopatterning applications. J. Mater. Chem. C, 2019, 7, 2535-2540.

  • CX Wang, XM Li, H Deng*. Synthesis of a Fluoromethacrylate Hydroxystyrene Block Copolymer Capable of Rapidly Forming Sub-5 nm Domains at Low Temperatures. ACS Macro Lett. 2019, 8, 368−373

  • XM Li, CX Wang, JN Zhou, ZY Yang, Y Zhang, H Deng*. Ultra-Fast Block Copolymers for Sub-5 nm Lithographic Patterning. J. Photopolym. Sci. Technol. 2018, 31, 483-486

  • XM Li, JN Zhou, Y Peng, H Deng*. Ultra-Fast Directed Self-Assembly Materials for Sub-5 nm Patterning Application. SPIE Advanced Lithography, 2018.

  • H Deng*, XM Li, Y Peng, JN Zhou, Fast Annealing DSA materials Designed for Sub-5 nm Resolution,Proc. of SPIE 2018, 10586, 105861E.

  • XM Li, J Li, H Deng*. Synthesis and Directed Self-Assembly of Modified PS-b-PMMA for Sub-10 nm Nanolithography. J. Photopolym. Sci. Technol. 2017, 30,83-86

  • J Li, XM Li, H Deng*. Design and Synthesis of Sub-10 nm DSA Materials. SPIE Advanced Lithography, 2017, 10146.

  • J Li, XM Li, H Deng*. Design and Synthesis of Novel Directed Self-Assembly Block Copolymers for Sub-10 nm Lithography application. CSTIC (Semicon China). 2017,7919776.

一、美国专利

  • H. Deng, X. M. Li, J. Li, 15/614, 211. “A RAPID SELF-ASSEMBLED SMALL-SIZED BLOCK POLYMER MATERIAL WITH LOW QUENCHING TEMPERATURE AND THE PREPARATION AND APPLICATION THEREOF”.

  • H. Deng, C. X. Wang, Z. L. Li, X. M. Li,16/177,773 “A BLOCK COPOLYMER AND PREPARATION METHOD AND APPLICATION THEREOF”.

二、中国专利

  • 邓海,李雪苗,李杰,“一种低淬火温度快速组装的小尺寸嵌段高分子材料及其制备和应用”,专利号:ZL2017 10412631.8。

  • 邓海,吴光亚,“一种超高分辨率含金属嵌段共聚物光刻材料及其制备与应用”,申请号:202010499705.8。

  • 邓海,李雪苗,杨振宇,“一种超高分辨率含金属嵌段共聚物及其制备方法与应用:,申请号:202010058407.5

  • 邓海,曹惠,刘玉云,戴乐,“一种含液晶单元的定向自组装嵌段共聚物及其合成与应用方法”,申请号:201811645070.7。

  • 邓海,李雪苗,杨振宇,“一种高刻蚀对比度的嵌段共聚物及其制备和应用”,申请号:201811168748.7。

  • 邓海,李雪苗,“一种高 χ 值嵌段聚合物的导向自组装方法”,申请号:201811013286.1。

  • 邓海,李雪苗,“一类高度有序的嵌段高分子材料及其制备和应用”,申请号:201810943217.4。

  • 邓海,王晨旭,李志龙,“一种超高分辨率含氟含氧嵌段共聚物及其制备方法与应用”,申请号:201810863466.2。

  • 邓海,杨振宇,“一种感光性聚合物及其制备方法和用途”,申请号:201810558655.9。

  • 邓海,胡海斌,张妍,杨振宇,“丙烯酸酯二级单体及以其聚合所得共聚物”,申请号:201711364464.0。

  • 邓海,李雪苗,李杰,“一种高度有序的含氟高分子材料”,申请号:201710758647.4。

  • 邓海,彭彧 ,“一种光产酸剂及其制备方法和应用”,申请号:201611122773.2。